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      印染廠汙水采用光化學氧化技術治理

      文章出處:人氣: 發表時間:2019-03-11 10:42:38
        對於光化學氧化技術水蜜桃免费网站先來了解下,光化學氧化法包括光敏化氧化,光激發氧化,光催化氧化三種工藝,所用光主要為紫外光,包括uv-H2O2、uv-O2等工藝。光化學氧化法是在化學氧化和光輻射的共同作用下,使氧化反應在速率和氧化能力上比單獨的化學氧化、輻射是目前一項高級氧化的汙水處理技術。能無選擇地將絕大多數有機物徹底氧化成CO2、H2O和其它無機物,反應速度快,耗時短。它對難降解而具有毒性的小分子有機物去除效果極佳。

        經過調查研究發現,對於印染廢水其主要是來源於染料的顏色染料分子的共扼體係—含不飽和基團-N=N-、-N=O等的發色體。利用光化學氧化工藝上的特點和染料汙水的分子結構特征,處理印染汙水光化學氧化產生的羥基自由基能夠有效打破共扼體係結構,使之變成無色的有機分子,並進一步礦化為H2O、CO2和其他無機物質,使印染汙水處理得到淨化。印染廢水光化學氧化處理

        經過多家印染公司的實踐,印染廠汙水處理工藝采用光化學氧化技術在印染廢水處理方麵具有其他工藝所無可比擬的優勢。但是由於運行成本較大,目前多數多隻用於大型印染企業和預算高、要求高的企業。

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